詞條
詞條說(shuō)明
靶材便是快速荷能粒子負(fù)電子的總體目標(biāo)原材料。靶材類(lèi)型比較多,有金屬類(lèi)、合金類(lèi)、金屬氧化物類(lèi)這些,用的領(lǐng)域也各有不同,運(yùn)用很普遍。那麼普遍的金屬靶材有什么?普遍金屬靶材的類(lèi)型如下所示基本金屬軋材鎂Mg、錳M、鐵Fe、鈷CO、鎳Ni、銅Cu、鋅Zn、鉛Pd、錫S、鋁AL小金屬靶材銦I、鍺Ge、鎵Ga、銻Sb、鉍Bi、鎘Cd硅化物金屬靶材鈦Ti、鍇Zr、鉿Hf、釩V鈮№b、鉭Ta、銘Cr、鉬M、鎢W、錸
釕靶材廠家淺談常見(jiàn)的靶材我們都了解靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料。濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。靶材種類(lèi)比較多,有金屬類(lèi)、合金類(lèi)、氧化物類(lèi)等等,用的行業(yè)也有所不同,應(yīng)用很廣泛。那么常見(jiàn)的金屬靶材有哪些?濺射靶材是否希缺資源?下面我們一起了解一下。一、常見(jiàn)
目前靶材的制備主要有鑄造法和粉末冶金法。鑄造法:將一定成分配比的合金原料熔煉,再將合金溶液澆注于模具中,形成鑄錠,最后經(jīng)機(jī)械加工制成靶材,鑄造法在真空中熔煉、鑄造。常用的熔煉方法有真空感應(yīng)熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等,其優(yōu)點(diǎn)是靶材雜質(zhì)含量(特別是氣體雜質(zhì)含量)低,密度高,可大型化;缺點(diǎn)是對(duì)熔點(diǎn)和密度相差較大的兩種或兩種以上金屬,普通熔煉法難以獲得成分均勻的合金靶材。粉末冶金法:將一定成分
公司團(tuán)隊(duì)服務(wù)鍍膜領(lǐng)域十二年,對(duì)各材料的靶材研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、擁有成熟的經(jīng)驗(yàn);公司與國(guó)內(nèi)外各行業(yè)科研院所長(zhǎng)期合作,為眾多國(guó)內(nèi)外工程項(xiàng)目提供了優(yōu)質(zhì)的靶材產(chǎn)品;公司注重用戶實(shí)踐與產(chǎn)品研發(fā),取得多項(xiàng)專(zhuān)利和研發(fā)成果。
公司名: 醴陵市利吉升新材料有限公司
聯(lián)系人: 謝小姐
電 話: 0769-88039551
手 機(jī): 18681059431
微 信: 18681059431
地 址: 湖南株洲醴陵市仙岳山街道五里墩村
郵 編:
網(wǎng) 址: dgsdwxc.cn.b2b168.com
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