鵬城半導(dǎo)體亮相*八屆***三代半導(dǎo)體論壇

時(shí)間：2023-02-01作者：鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司瀏覽：184

鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司專注于PVD鍍膜設(shè)備,化學(xué)氣相沉積,金剛石涂層等

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• 高真空磁控濺射鍍膜技術(shù)【地震資訊】

  真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特膜層的技術(shù)，在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。真空鍍膜技術(shù)有三種形式：即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍膜。在這里主要講下磁控濺射鍍膜。磁控濺射技術(shù)在市場(chǎng)中應(yīng)用非常的廣泛，各行各業(yè)物件膜層鍍膜，大多數(shù)都是采用磁控濺射技術(shù)，磁控濺射技術(shù)在真空行業(yè)也是非常的受歡迎和追捧。高真空磁控濺射鍍膜是屬于物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種，一般的濺

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  真空鍍膜設(shè)備的薄膜制作過程，簡單來說就是將一種材料(薄膜材料）轉(zhuǎn)移到另一種材料(基底)的表面，形成和基底牢固結(jié)合的薄膜的過程。所以，任何的真空鍍膜薄膜制作方法都包括:源蒸發(fā)、遷移和凝聚三個(gè)重要環(huán)節(jié)。多功能磁控濺射儀一、鍍膜蒸發(fā)源“源"的作用是提供鍍膜的材料（或被鍍材料中的某種組分)。通過物理或化學(xué)的方法使鍍膜材料成為氣態(tài)物質(zhì)。熱絲CVD金剛石設(shè)備二、遷移過程遷移過程都是在氣相中進(jìn)行的，在氣態(tài)物質(zhì)遷

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• 「喜訊」熱烈祝賀鵬城半導(dǎo)體榮獲4項(xiàng)軟件著作權(quán)**證書

  近日，鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司（簡稱：鵬城半導(dǎo)體）申請(qǐng)的《PVD薄膜沉積系統(tǒng)軟件 》、《高真空濺射系統(tǒng)軟件》、《電子束蒸鍍薄膜沉積系統(tǒng)軟件》、《微米晶、納米晶金剛石薄膜CVD沉積系統(tǒng)軟件》4項(xiàng)軟件著作權(quán)**通過審批，經(jīng)*人民共和國國家**考證，根據(jù)《*人民共和國計(jì)算機(jī)軟件保護(hù)條例》和《計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)登記辦法》的規(guī)定，鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司被認(rèn)定這4項(xiàng)軟件的法定著作權(quán)人，從頒證