簾子布附膠量標(biāo)準(zhǔn)方法與低場(chǎng)核磁法介紹

時(shí)間：2023-02-22作者：蘇州紐邁分析儀器股份有限公司瀏覽：163

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  cmp研磨液廠家使用低場(chǎng)核磁技術(shù)研究CMP拋光液的原位分散性CMP 全稱為 Chemical Mechanical Polishing，即化學(xué)機(jī)械拋光。該技術(shù)是半導(dǎo)體晶圓制造的*流程之一，對(duì)高精度、高性能晶圓制造至關(guān)重要。拋光液的主要成分包括研磨顆粒、PH值調(diào)節(jié)劑、氧化劑、分散劑等。從成分中我們就大概知道了拋光液是一種對(duì)分散要求很高的納米材料懸浮液，所以研磨過程中對(duì)顆粒的尺寸變化以及顆粒在懸浮液

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