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cmp研磨液廠家使用低場核磁技術(shù)研究CMP拋光液的原位分散性
cmp研磨液廠家使用低場核磁技術(shù)研究CMP拋光液的原位分散性CMP 全稱為 Chemical Mechanical Polishing,即化學(xué)機(jī)械拋光。該技術(shù)是半導(dǎo)體晶圓制造的*流程之一,對高精度、高性能晶圓制造至關(guān)重要。拋光液的主要成分包括研磨顆粒、PH值調(diào)節(jié)劑、氧化劑、分散劑等。從成分中我們就大概知道了拋光液是一種對分散要求很高的納米材料懸浮液,所以研磨過程中對顆粒的尺寸變化以及顆粒在懸浮液
小型核磁共振儀什么是小型核磁共振儀?小型核磁共振儀是一種用于樣品分析的科學(xué)儀器。它是核磁共振技術(shù)的一種,與傳統(tǒng)的大型核磁共振儀相比,小型核磁共振儀具有較小的體積、較低的成本以及較便捷的使用方式。小型核磁共振儀廣泛應(yīng)用于醫(yī)藥、化學(xué)、材料科學(xué)等領(lǐng)域的研究和實(shí)驗(yàn)。它可以用于分析食品、農(nóng)業(yè)、材料科學(xué)、石油能源等領(lǐng)域,是一種的無損檢測技術(shù)。相對于大型核磁共振儀,小型核磁共振儀具有較靈活、快速的特點(diǎn),可以適用
紐邁分析響應(yīng)設(shè)備較新政策,助力物理實(shí)驗(yàn)教學(xué)!
3月1日召開的**常務(wù)會議,審議通過《推動大規(guī)模設(shè)備較新和消費(fèi)品以舊換新行動方案》。會議指出,要結(jié)合各類設(shè)備和消費(fèi)品較新?lián)Q代差異化需求,加大財(cái)稅、金融等政策支持,較好發(fā)揮能耗、排放、技術(shù)等標(biāo)準(zhǔn)的牽引作用,有序推進(jìn)重點(diǎn)行業(yè)設(shè)備、建筑和**基礎(chǔ)設(shè)施領(lǐng)域設(shè)備、交通運(yùn)輸設(shè)備和老舊農(nóng)業(yè)機(jī)械、教育醫(yī)療設(shè)備等較新改造。教學(xué)設(shè)備較新作為教育現(xiàn)代化的重點(diǎn),加大財(cái)政投入力度,設(shè)立專項(xiàng)資金用于支持學(xué)校的教學(xué)設(shè)備較新。
公司名: 蘇州紐邁分析儀器股份有限公司
聯(lián)系人: 何經(jīng)理
電 話: 15618037925
手 機(jī): 18939912673
微 信: 18939912673
地 址: 江蘇蘇州江蘇省蘇州高新區(qū)科靈路78號蘇高新軟件園2號樓
郵 編:
網(wǎng) 址: ngpwmc4462515.cn.b2b168.com
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