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徐州恒霄電子科技有限公司LPCVD 技術原理與基礎機制


    徐州恒霄電子科技有限公司專注于LPCVD低壓化學氣相沉積,PVD磁控濺射鍍膜機,IBE離子刻蝕機功率器件用等

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  • 徐州恒霄電子科技有限公司LPCVD 技術原理與基礎機制

    LPCVD 技術是在 10-1000Pa 的低壓環(huán)境中,通過氣態(tài)反應物在加熱基片表面發(fā)生化學反應,實現(xiàn)固態(tài)薄膜沉積的工藝。其核心原理包含四個關鍵步驟:首先是氣體輸運,將硅烷、氨氣、一氧化二氮等反應氣體精準引入反應腔室,為反應提供物質基礎;其次是表面吸附,在 400-800℃的基片表面,氣體分子經物理與化學吸附形成吸附層,這是反應的前置條件;接著是化學反應,高溫下吸附的氣體分子分解或相互反應,生成二

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