等離子清洗機(jī)對(duì)HDI板孔（微小孔）的處理

時(shí)間：2022-04-06作者：煙臺(tái)金鷹科技有限公司瀏覽：371

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• 詞條

  詞條說明

• 等離子清洗機(jī)用于半導(dǎo)體晶圓清洗工藝

  等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體晶圓清洗工藝中的應(yīng)用：等離子體清洗機(jī)具有工藝簡單、操作方便、沒有廢料處理和環(huán)境污染等問題。等離子清洗機(jī)常用于光刻膠的去除工藝中,在等離子體反應(yīng)系統(tǒng)中通入少量的氧氣,在強(qiáng)電場作用下,使氧氣產(chǎn)生等離子體,迅速使光刻膠氧化成為可揮發(fā)性氣體狀態(tài)物質(zhì)被抽走。等離子清洗機(jī)在去膠工藝中具有操作方便、表面干凈、無劃傷、有利于確保產(chǎn)品的質(zhì)量等優(yōu)點(diǎn),而且等離子清洗機(jī)不用酸、堿及有機(jī)溶劑等等離子清洗

• 等離子清洗機(jī)，等離子去膠機(jī)工藝原理及使用

  等離子清洗機(jī)，等離子去膠機(jī)工藝原理及使用 1) 等離子清洗機(jī)，等離子去膠機(jī)反應(yīng)機(jī)理： ? ?在干法等離子去膠技術(shù)中，氧是首要腐蝕氣體。它在真空等離子去膠機(jī)反響室中受高頻及微波能量效果，電離發(fā)生氧離子、游離態(tài)氧原子 O*、氧分子和電子等混合的等離子體，其間具有強(qiáng)氧化才能的游離態(tài)氧原子 （約占 10-20%）在高頻電壓效果下與光刻膠膜反響： O2→O*+ O*， CxHy + O

• 等離子處理機(jī)對(duì)彩盒包裝的處理

  等離子清洗機(jī)可以提高粘度，而無需損壞包裝盒表面。工作場所易于清潔，不影響工作效率。等離子清洗機(jī)可以幫助企業(yè)節(jié)省昂貴的膠水成本。它不僅可以清潔和去去除污漬，還可以改變材料本身的表面性能。例如，提高表面的潤濕性能和膜的附著力。等離子表面處理設(shè)備可以有針對(duì)性地處理材料表面，顯著提供表面張力，使材料在后續(xù)加工中獲得良好的印刷、粘接或涂層質(zhì)量。等離子清洗機(jī)Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機(jī)、等

• 晶圓光刻膠等離子清洗機(jī)及設(shè)備

  在半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過程中，晶圓芯片表面會(huì)存在各種微粒、金屬離子、有機(jī)物及殘留的磨料顆粒等沾污雜質(zhì)，為了避免污染物對(duì)芯處理性能造成致致命影響和缺陷，在保證不破壞芯處理及其他輔助材料表面特性、電特性的前提下，半導(dǎo)體晶圓在制造過程中，需要經(jīng)過多次的表面清洗步驟，而晶圓光刻膠plasma等離子清洗機(jī)是晶圓級(jí)和3D封裝應(yīng)用的理想的干式清洗設(shè)備。晶圓光刻蝕膠等離子清洗機(jī)的應(yīng)用：等離子應(yīng)用包括預(yù)處理、灰化/光刻膠