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詞條說明
等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體晶圓清洗工藝中的應(yīng)用:等離子體清洗機(jī)具有工藝簡單、操作方便、沒有廢料處理和環(huán)境污染等問題。等離子清洗機(jī)常用于光刻膠的去除工藝中,在等離子體反應(yīng)系統(tǒng)中通入少量的氧氣,在強(qiáng)電場作用下,使氧氣產(chǎn)生等離子體,迅速使光刻膠氧化成為可揮發(fā)性氣體狀態(tài)物質(zhì)被抽走。等離子清洗機(jī)在去膠工藝中具有操作方便、表面干凈、無劃傷、有利于確保產(chǎn)品的質(zhì)量等優(yōu)點(diǎn),而且等離子清洗機(jī)不用酸、堿及有機(jī)溶劑等等離子清洗
等離子清洗機(jī),等離子去膠機(jī)工藝原理及使用 1) 等離子清洗機(jī),等離子去膠機(jī)反應(yīng)機(jī)理: ? ?在干法等離子去膠技術(shù)中,氧是首要腐蝕氣體。它在真空等離子去膠機(jī)反響室中受高頻及微波能量效果,電離發(fā)生氧離子、游離態(tài)氧原子 O*、氧分子和電子等混合的等離子體,其間具有強(qiáng)氧化才能的游離態(tài)氧原子 (約占 10-20%)在高頻電壓效果下與光刻膠膜反響: O2→O*+ O*, CxHy + O
等離子清洗機(jī)可以提高粘度,而無需損壞包裝盒表面。工作場所易于清潔,不影響工作效率。等離子清洗機(jī)可以幫助企業(yè)節(jié)省昂貴的膠水成本。它不僅可以清潔和去去除污漬,還可以改變材料本身的表面性能。例如,提高表面的潤濕性能和膜的附著力。等離子表面處理設(shè)備可以有針對(duì)性地處理材料表面,顯著提供表面張力,使材料在后續(xù)加工中獲得良好的印刷、粘接或涂層質(zhì)量。等離子清洗機(jī)Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機(jī)、等
在半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過程中,晶圓芯片表面會(huì)存在各種微粒、金屬離子、有機(jī)物及殘留的磨料顆粒等沾污雜質(zhì),為了避免污染物對(duì)芯處理性能造成致致命影響和缺陷,在保證不破壞芯處理及其他輔助材料表面特性、電特性的前提下,半導(dǎo)體晶圓在制造過程中,需要經(jīng)過多次的表面清洗步驟,而晶圓光刻膠plasma等離子清洗機(jī)是晶圓級(jí)和3D封裝應(yīng)用的理想的干式清洗設(shè)備。晶圓光刻蝕膠等離子清洗機(jī)的應(yīng)用:等離子應(yīng)用包括預(yù)處理、灰化/光刻膠
公司名: 煙臺(tái)金鷹科技有限公司
聯(lián)系人: 劉曉玲
電 話: 0535 -8236617
手 機(jī): 13573547231
微 信: 13573547231
地 址: 山東煙臺(tái)招遠(yuǎn)市山東招遠(yuǎn)高新開發(fā)區(qū)招金路518號(hào)
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網(wǎng) 址: ytjykj.cn.b2b168.com
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