等離子清洗機改善材料表面的親水性

時間：2022-04-01作者：煙臺金鷹科技有限公司瀏覽：189

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  詞條說明

• 大氣常壓等離子表面處理機設(shè)備

  大氣常壓等離子表面處理機 常壓等離子表面處理機設(shè)備由等離子發(fā)生器、氣源輸入及等離子處理工作站等部分組成。等離子發(fā)生器產(chǎn)生高壓高頻能量在噴頭鋼管中被激活和被控制的輝關(guān)光放電中產(chǎn)生了低溫等離子體，借助壓縮空氣將等離子體噴向工件表面，當?shù)入x子體與被處理物體表面相遇時，產(chǎn)生了化學作用和物理變化，表面得到了清潔，去除了碳化氫類污物，如油?脂、輔助添加劑等，根據(jù)材料成分，其表面分子鏈結(jié)構(gòu)得到了改變

• 等離子體清洗機及設(shè)備在干法清洗的優(yōu)勢

  工業(yè)生產(chǎn)中的清洗概念很廣，包括任何與去除污染物有關(guān)的工藝，在不破壞材料表面特性的前提下，有效地清除殘留在材料上的微塵，有機雜物及金屬離子?，F(xiàn)等離子清洗機通過對樣品表面進行改性（親水性），同時除掉表面有機物，使多種材料之間能夠進行貼合、涂覆、鍍膜等工藝操作。從研究開發(fā)到工藝生產(chǎn)使用，從表面微細加工到表面處理改質(zhì)效果都非常好，應用廣泛。如今應用研究于物理化學清洗的方法，大致分為兩類：干法清洗和濕法清洗

• 等離子清洗機設(shè)備在集成電路和MEMS行業(yè)的應用

  ????在集成電路或MEMS微納米加工前道工序中，晶圓表面會涂上光刻膠，然后光刻，顯影，但光刻膠只是圖形轉(zhuǎn)化的媒介，當光刻后在光刻膠上形成微納米圖形后，需要進行下一步的生長或刻蝕的工藝，之后需要用某種方法把光刻膠去除。等離子體去膠機可實現(xiàn)此功能。它用射頻或微波方式產(chǎn)生等離子體，同時通入氧氣或其他氣體，等離子體與光刻膠進行反應，形成氣體被真空泵抽走 等離子清

• 等離子清洗機鍍膜前處理

  ?? 等離子清洗機的預處理是采用等離子表面處理機在AF、AS、AG、AR鍍膜（噴涂）工藝前，對基材表面進行精細化清洗、蝕刻和活化，可以得到非常薄的高張力涂層表面，有利于噴涂藥水的附著牢固和厚薄均勻。? ? 1.清洗：等離子清潔機能清除表面的有機物、樹脂、灰塵、油污、雜質(zhì)等，增加表面能。? ? 2.蝕刻：等離子清洗機能將材料表面改性粗化，蝕