等離子清洗機鍍膜前處理

時間：2023-04-01作者：煙臺金鷹科技有限公司瀏覽：491

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  詞條說明

• 等離子清洗機，等離子去膠機工藝原理及使用

  等離子清洗機，等離子去膠機工藝原理及使用 1) 等離子清洗機，等離子去膠機反應(yīng)機理： ? ?在干法等離子去膠技術(shù)中，氧是首要腐蝕氣體。它在真空等離子去膠機反響室中受高頻及微波能量效果，電離發(fā)生氧離子、游離態(tài)氧原子 O*、氧分子和電子等混合的等離子體，其間具有強氧化才能的游離態(tài)氧原子 （約占 10-20%）在高頻電壓效果下與光刻膠膜反響： O2→O*+ O*， CxHy + O

• plasma等離子處理清洗機的行業(yè)應(yīng)用

  等離子處理機在汽車制造業(yè)的應(yīng)用：車門密封條--EPDM密封條預(yù)處理、植絨和涂層前預(yù)處理，可替代機械打磨和化學(xué)底涂汽車儀表汽車前燈PP底座，溝槽、儀表盤粘接前預(yù)處理粘結(jié)前預(yù)處理；汽車大燈：提高前照燈和尾燈的粘接密封效果，且降低粘接成本高級汽車涂裝烤漆前處理，提高漆層附著力及流平速度、降低橘皮效應(yīng)等離子清洗機在塑料橡膠行業(yè)的應(yīng)用在生產(chǎn)線上塑料瓶貼標簽前處理濕粘系統(tǒng)替代熱熔和擴散；PP薄膜單面預(yù)處理穩(wěn)定

• 等離子清洗機設(shè)備在集成電路和MEMS行業(yè)的應(yīng)用

  ????在集成電路或MEMS微納米加工前道工序中，晶圓表面會涂上光刻膠，然后光刻，顯影，但光刻膠只是圖形轉(zhuǎn)化的媒介，當光刻后在光刻膠上形成微納米圖形后，需要進行下一步的生長或刻蝕的工藝，之后需要用某種方法把光刻膠去除。等離子體去膠機可實現(xiàn)此功能。它用射頻或微波方式產(chǎn)生等離子體，同時通入氧氣或其他氣體，等離子體與光刻膠進行反應(yīng)，形成氣體被真空泵抽走 等離子清

• 等離子清洗機，光刻膠剝離

  等離子清洗機用于清洗晶元（Wafer），去除表面光刻膠。具有高度的均勻性，穩(wěn)定的刻蝕速率。等離子體清洗機在處理晶圓表面光刻膠時，等離子表面清洗能夠去除表面光刻膠和其余有機物，也可以通過等離子活化和粗化作用，對晶圓表面進行處理，能有效提高其表面浸潤性。相比于傳統(tǒng)的濕式化學(xué)方法，等離子體清洗機干式處理的可控性強，一致性好，并且對基體沒有損害。等離子清洗機有幾種稱謂，英文叫（Plasma Cleaner