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    磁控濺射鍍膜技術:精密涂層的**工藝 磁控濺射鍍膜技術是一種在真空環(huán)境下利用磁場控制等離子體,將靶材原子濺射到基片表面形成薄膜的工藝。這項技術廣泛應用于光學鏡片、半導體器件、工具涂層等領域,能夠制備出均勻、致密且附著力強的功能性薄膜。 磁控濺射的**在于磁場與電場的協(xié)同作用。在真空腔體內,惰性氣體(如氬氣)被電離形成等離子體,電子在磁場約束下做螺旋運動,增加與氣體分子的碰撞概率,從而提高濺射效率

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