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快速退火爐是現(xiàn)代大規(guī)模集成電路生產(chǎn)工藝過程中的關(guān)鍵裝備? ? ?主要用于離子注入后雜質(zhì)的、淺結(jié)制作、生長高質(zhì)量的氧化膜層和金屬硅化物合金形成等工藝。隨著集成電路工藝技術(shù)的飛速發(fā)展,開展快速退火爐系統(tǒng)的技術(shù)研究,對國內(nèi)開發(fā)和研究具有自主知識產(chǎn)權(quán)的快速退火爐裝備,有著十分重要的理論意義和工程應用**。? ? ? 本文針對現(xiàn)代半導體器件退火工藝
小型濺射儀的工作原理是指電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場作用下加速飛向陰靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,而產(chǎn)生的二次電子會受到電場和磁場作用,產(chǎn)生E(電場)×B(磁場)所指的方向漂移,簡稱E×B漂移,其運動軌跡近似一條擺線。若為環(huán)形磁場,則電子就
?微型探針臺尺寸小、重量輕,具備變溫測試及真空測試功能,適用于科研工作,也適用于與其他儀器聯(lián)用,是一款非常有特點的微探針系統(tǒng)。? ? ? 鄭科探真空探針臺主要應用于傳感器,半導體,光電,集成電路以及封裝的測試。 廣泛應用于復雜、高速器件的精密電氣測量的研發(fā),旨在確保質(zhì)量及可靠性,并縮減研發(fā)時間和器件制造工藝的成本。儀器特點:工作距離短、尺寸小,帶有視窗,可以
本產(chǎn)品為6英寸高低溫熱臺,能夠在高溫400度和低溫-120度的環(huán)境中工作。它是一種用于實驗室、研究及工業(yè)生產(chǎn)過程中進行溫度控制的設(shè)備,廣泛應用于各類材料的熱處理、熱性能測試、化學反應、生物樣品處理等方面。本產(chǎn)品具有溫度范圍廣、控溫精度高、操作簡便及使用等特點,是實驗室及工業(yè)領(lǐng)域非常理想的高低溫熱臺設(shè)備。產(chǎn)品用途:1.?材料熱處理:廣泛應用于金屬、陶瓷、塑料、粉末、納米材料等領(lǐng)域的熱處理、
公司名: 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
聯(lián)系人: 裴先生
電 話:
手 機: 15136134901
微 信: 15136134901
地 址: 河南鄭州中原區(qū)鄭州**產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)西三環(huán)路289號6幢11單元3層73號
郵 編:
網(wǎng) 址: zzketan.b2b168.com
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