氦質(zhì)譜檢漏儀高溫真空燒結(jié)爐氣密性泄露檢測

時(shí)間：2023-04-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：110

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  詞條說明

• KRI 霍爾離子源應(yīng)用于黑膜鍍制

  ? ?? ? ?黑膜鍍制,?是指將入射到材料表面的光線,?包括紫外光、可見光、近紅外光以及中遠(yuǎn)紅外波段的光,?幾乎全部吸收而基本沒有反射的表面處理技術(shù).?高的吸收率使黑膜有著廣闊的應(yīng)用前景.?如可在精密光學(xué)儀器和光學(xué)零件、醫(yī)療儀器、航空航天、外觀裝飾品等產(chǎn)品上得到廣泛使用,?可大幅度提高產(chǎn)

• HVA 真空閥門應(yīng)用于亞洲*大的粒子系統(tǒng)

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。美國 HVA 真空閥門應(yīng)用于亞洲大的粒子系統(tǒng)上海伯東代理的美國 HVA 真空閥門應(yīng)用于中國研制的亞洲大的粒子系統(tǒng) ( 100MV ),當(dāng)前世界上大的粒子系統(tǒng)為美國費(fèi)密國立實(shí)驗(yàn)室的一臺質(zhì)子同步 ( 200MV )上海伯東是美國 HVA 真空閥門在中國境內(nèi)的代理商, 負(fù)責(zé)HVA valve 真空閥門在中國地區(qū)的銷售和相關(guān)

• 氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340D 高真空排氣臺密封性泄露檢測

  氦質(zhì)譜檢漏儀高真空排氣臺密封性泄露檢測上海伯東某客戶生產(chǎn)研發(fā)多工位高真空和高真空排氣臺, 實(shí)現(xiàn)多工位同時(shí)抽真空的效果, 真空度需要穩(wěn)定在 -7 mbar, - 8 mbar, 包含真空系統(tǒng)在內(nèi)的多個(gè)組件, 均需要進(jìn)行密封性泄露測試, 以保證高真空性能. 經(jīng)過上海伯東推薦真空系統(tǒng)核心組件分子泵選用德國 Pfeiffer HiPace 系列, 并使用無油干式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340D?

• KRI 離子源用于鍍制1064nm窄帶濾光片激光膜

  ?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片是在各類玻璃材質(zhì)表面通過特殊的鍍膜工藝而形成的光學(xué)元件, 可以從入射光中選取任意所需求的波長, 半峰值一般在 5nm~50nm之間, 具有波長定位準(zhǔn)確、透過高、截止深、溫漂小、性好、光潔度好的特點(diǎn), 是激光設(shè)備應(yīng)用中常見的濾光片解決方案.?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片使用在