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詞條說明
產(chǎn)水量下降原因分析反滲透膜污染:這是產(chǎn)水量下降最常見的原因之一。水中的雜質(zhì),如有機物、膠體、微生物等,會在反滲透膜表面形成污垢層,堵塞膜的微孔,從而減少水的透過量。例如,當原水中含有較多的腐殖質(zhì)時,這些有機物會吸附在膜表面,隨著時間的推移逐漸積累,導(dǎo)致產(chǎn)水量降低。進水壓力不足:高壓泵是為原水通過反滲透膜提供壓力的關(guān)鍵設(shè)備。如果高壓泵出現(xiàn)故障,如葉輪磨損、密封不嚴等,會導(dǎo)致進水壓力下降,水無法以足夠
在實驗室超純水機設(shè)備中,反滲透膜起著至關(guān)重要的作用,主要體現(xiàn)在以下幾個方面:高效脫鹽反滲透膜的孔徑極小,一般在 0.0001 - 0.001 微米之間。這個微小的孔徑使得它能夠有效阻擋水中的各種鹽離子,如鈉離子(Na?)、氯離子(Cl?)、鈣鎂離子(Ca2?、Mg2?)等。當含有這些離子的水在一定壓力下通過反滲透膜時,鹽離子無法通過,只有水分子能夠透過膜,從而實現(xiàn)脫鹽的目的。例如,在制備用于化學分
電子工業(yè)領(lǐng)域半導(dǎo)體制造:在半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)過程中,幾乎每一個環(huán)節(jié)都需要高純度的水。從硅片的清洗,到光刻、蝕刻等工藝,都要求水中幾乎不含任何雜質(zhì)。EDI 純水設(shè)備所生產(chǎn)的高純度水(電阻率可達 18.2MΩ?cm 以上)可以有效地避免水中的離子、有機物和微生物對芯片制造過程產(chǎn)生影響,確保芯片的性能和質(zhì)量。例如,在光刻工藝中,哪怕是微小的顆粒雜質(zhì)也可能導(dǎo)致芯片線路出現(xiàn)缺陷,而 EDI 純水能夠為光刻膠的
預(yù)處理系統(tǒng)維護機械過濾器檢查與清洗定期(一般 1 - 2 周)檢查機械過濾器(如石英砂過濾器或 PP 棉濾芯過濾器)的進出水壓差。如果壓差超過設(shè)備規(guī)定的范圍,通常表明過濾器內(nèi)部堵塞,需要進行清洗或更換濾芯。例如,PP 棉濾芯在使用一段時間后,其表面會積累大量泥沙、鐵銹等雜質(zhì),當進出水壓差達到 0.05 - 0.1MPa 時,就應(yīng)該考慮更換濾芯。在清洗石英砂過濾器時,要先關(guān)閉進水閥和出水閥,打開排污
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