影響磁控濺射中靶中毒的因素有哪些？

時間：2022-07-20作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：162

廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司專注于真空鍍膜,真空鍍膜設(shè)備,真空鍍膜生產(chǎn)商等

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  詞條說明

• 電鍍和真空鍍的區(qū)別

  ????電鍍和真空鍍的區(qū)別有哪些？接下來讓我們一起來了解一下，較方便我們猶豫選擇電鍍還是真空鍍的時候能做出正確的判斷。一、原理上的不同1、電鍍：是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其他金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其他材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝。電鍍過程是鍍液中的金屬離子在外電場的作用下，經(jīng)電極反應(yīng)還原成金屬原子，并在陰極上進(jìn)行金屬沉積

• 立式濺射鍍膜設(shè)備的優(yōu)勢及應(yīng)用行業(yè)

  立式濺射鍍膜設(shè)備的特點： 1、在真空條件下制備鍍膜環(huán)境清潔，膜層不易受污染，可獲得致密性好，純度高，膜層厚度均勻，易于控制的涂層。 2、膜材的基體材料有廣泛的選擇性，可制備各種不同的功能性涂層。 3、膜的附著強(qiáng)度高，膜層十分牢固，不易脫落。 4、在工藝過程中不產(chǎn)生廢液，減少環(huán)境污染，減少對人體有害的金屬物體，較大程度上實現(xiàn)綠色環(huán)保生產(chǎn)。其中之一的汽車行業(yè) 該設(shè)備的設(shè)計為立式雙門的結(jié)構(gòu)，是一款直流磁

• 磁控濺射鍍膜設(shè)備

  ? ? ? ? 該設(shè)備集磁控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體，對提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據(jù)不同的產(chǎn)品需求，可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等裝置，其靶位分布可靈活調(diào)整，膜層均勻性優(yōu)越，配備不同的靶材，可鍍制出性能較好的復(fù)合膜層。設(shè)備所鍍制的膜層具有附著力強(qiáng)，致密性高的優(yōu)點，可有效提高產(chǎn)品的耐鹽霧性、耐磨性及產(chǎn)品表面硬度，滿足了

• 真空鍍膜設(shè)備的環(huán)境要求

  ? ? ? ? ? 由于真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作，因此該設(shè)備要滿足真空對環(huán)境的要求。我國制減定的各類真空鍍膜設(shè)備的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(包括真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件、真空離子鍍膜設(shè)備、真空濺射鍍膜設(shè)備、真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備)都對環(huán)境要求作了明確規(guī)定。只有滿足了真空鍍膜設(shè)備對環(huán)境的要求，才能使該設(shè)備正常運(yùn)轉(zhuǎn)，加上正確的鍍膜工藝，方能生產(chǎn)出合格的鍍膜產(chǎn)品。真空對