PVD真空鍍膜技術(shù)知識問答

時間：2023-10-07作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：165

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專注于真空探針臺,小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

• 詞條

  詞條說明

• 氣敏測試探針臺具有哪些領(lǐng)域？

  ?微型探針臺尺寸小、重量輕，具備變溫測試及真空測試功能，適用于科研工作，也適用于與其他儀器聯(lián)用，是一款非常有特點的微探針系統(tǒng)。? ? ? 鄭科探真空探針臺主要應(yīng)用于傳感器，半導(dǎo)體，光電，集成電路以及封裝的測試。 廣泛應(yīng)用于復(fù)雜、高速器件的精密電氣測量的研發(fā)，旨在確保質(zhì)量及可靠性，并縮減研發(fā)時間和器件制造工藝的成本。儀器特點：工作距離短、尺寸小，帶有視窗，可以

• 小型濺射儀問題解答

  小型濺射儀儀問儀答近小伙伴對于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問的問題比較多，今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見的技術(shù)問題：1、膜厚檢測儀原理：膜厚監(jiān)測儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測量技術(shù)加上的數(shù)學(xué)算法，進(jìn)行膜厚的在線鍍膜速率和實時厚度計算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過程中，對膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實時監(jiān)測。2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳 ?但是 鎳是導(dǎo)磁金屬

• 你并不了解小型濺射儀

  小型濺射儀的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會受到電場和磁場作用，產(chǎn)生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似一條擺線。若為環(huán)形磁場，則電子就

• 磁控濺射沉積系統(tǒng)設(shè)計

  ?針對光學(xué)和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問題,設(shè)計了一種磁控濺射沉積系統(tǒng),系統(tǒng)包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽極清洗裝置。主要結(jié)論有:(1)在磁控濺射靶裝置設(shè)計中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達(dá)10-6 Pa;采用旋轉(zhuǎn)磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時避免了靶裝置在預(yù)先清洗時的污染;設(shè)計了靶裝置的驅(qū)動端,完成了電機(jī)